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酸銅中間體探討

2021-08-13 11:31

酸銅中間體由于鍍層韌性好,光亮流平性好,沉積速度快,用于塑料電鍍金屬銅鎳鉻裝飾鍍和印制板孔金屬化電鍍和電鑄。 占據重要位置。 要想取得好的效果,充分發揮其優勢,關鍵在于光亮劑。 對于增白劑的研究,世界各國在這方面開展了廣泛的工作,并大力研究硫脲衍生物,并開始研究其他染料,以及含羥基雜環等增白劑和勻染劑。 化合物和聚醚化合物。 代理人。 近二十年來,國內許多單位也對酸銅中間體進行了研究,并取得了顯著的成果。 走國道,打造國際品牌,國產光亮劑已經替代進口光亮劑,在某些方面也優于進口光亮劑。

2) 酸銅中間體

為了在酸性鍍銅中獲得細晶、高光澤和高流平的鏡面效果,必須加入光亮劑、流平劑和表面活性劑三種助劑。

2.1光亮劑,S型光亮劑主要是Na和H,用于細化晶粒,增強高電流密度區域的亮度和流平劑。

主要成分為有機含硫磺酸鹽等主要發光基團。 高端光亮劑中間體包括醇硫代丙烷磺酸鈉(HP)、二甲基甲酰胺磺酸鈉(TPS)和噻二胺二硫代丙烷磺酸(SH110)。  HP 是一種用于酸性鍍銅浴的晶粒細化劑,可替代傳統的 SP(聚二硫化物丙烷磺酸鈉)。 與SP相比,涂層顏色清晰亮麗,用量范圍廣,不起霧,低級效果好。 優勢。  TPS的性能類似于SP。 其高區定位性能極佳。 光亮劑成分的性能易于控制。 是替代SP的新一代高性能銅酸中間體;  SH110與SP的功能基本相同,區別在于晶粒細化。 該劑與流平劑結合的產物。 這種工藝特別適用于電路板電鍍和電鑄銅。

2.2勻染劑,多為雜環化合物和染料。

主要功能對低處的亮度和平整度有很好的效果。 高端流平劑中間體包括四氫噻唑基(H1)聚乙烯亞胺烷基化合物(GISS)、脂肪胺乙氧基磺酸鹽(AESS)、巰基咪唑丙烷磺酸鹽(MESS)、二氮嗪染料(MDD),H1具有很強的流平性能。 是替代N(亞乙基硫脲)的優良流平劑。  GISS是聚乙烯亞胺在特定條件下縮合而成的高性能定位劑。  , 在低電流密度區域具有出色的定位性能。  AESS是一種強酸性銅定位劑。 在鍍液中加入AESS,可以顯著提高低電流密度區的亮度和流平性,同時也有一定的潤濕作用。  MESS是一種優良的中低級光亮劑,可替代M。 與M相比,具有較強的水溶性和流平性。 適當增加浴液不會渾濁,涂層不會產生砂粒。  MDD染料是一種強流平低定位劑,可使涂層特別飽滿、光亮。

酸銅中間體

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