新材料科技與化學技術(shù)創(chuàng)新
電鍍中間體/水性工業(yè)涂料/工業(yè)清洗化學品
國產(chǎn)ArF光刻膠已有3家企業(yè)實現(xiàn)實質(zhì)性的技術(shù)突破
2021-09-12 10:32
勢銀(TrendBank)研究統(tǒng)計分析，2021年國內(nèi)半導體光刻膠市場規(guī)模將達到29億人民幣。
國內(nèi)半導體光刻膠布局及生產(chǎn)企業(yè)總計約有14家，真正實現(xiàn)了批量供應的企業(yè)不足7家，且主要集中在紫外負膠/正膠、i/g線光刻膠，如：北京科華、蘇州瑞紅、濰坊星泰克、艾森半導體、江蘇漢拓等。而高端的KrF光刻膠國產(chǎn)化率不足1%，能夠?qū)崿F(xiàn)產(chǎn)品供應的有：北京科華、福建泓光半導體、江蘇漢拓、上海新陽等。在技術(shù)附加值更高的ArF光刻膠產(chǎn)品上，目前國內(nèi)還未能真正實現(xiàn)規(guī)模化量產(chǎn)訂單供應，就數(shù)寧波南大光電、博康旗下漢拓光學以及廣州微納光刻材料在ArF光刻膠產(chǎn)品上有實質(zhì)性的技術(shù)突破。
來源：勢銀(TrendBank)
窺探中國大陸規(guī)模最大的晶圓代工廠中芯國際各技術(shù)節(jié)點營收結(jié)構(gòu)，在2020年年底被美國打壓，四季度45nm以下制程營收發(fā)生嚴重壓縮，但在今年上半年公司整體運營開始逐步轉(zhuǎn)好，營收增長了33%，28nm/14nm的先進制程占比更是顯著提升，這也推動了上游先進光刻膠的需求，尤其是ArF光刻膠的國產(chǎn)替代。
來源：SMIC
目前國內(nèi)芯片制造企業(yè)消耗的ArF光刻膠基本是采購國外供應商，例如：JSR、TOK、信越化學等。我國本土光刻膠企業(yè)在ArF光刻膠產(chǎn)品上還是和國際老牌供應商之間存在很大的光刻性能差距，如：折射率、光敏度、分辨率、線邊緣粗糙度等等參數(shù)。經(jīng)勢銀(TrendBank)調(diào)研統(tǒng)計，我國正在真正逐步推進ArF光刻膠項目且有技術(shù)實力的廠商僅有如下6家，推測這幾家也將是未來2-3年內(nèi)逐一打入本土芯片制造商供應鏈的最有利競爭者：
寧波南大光電
公司是ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目的實施主體單位，目前ArF干式光刻膠已通過50nm閃存平臺認證和55nm邏輯電路平臺認證。公司正在大力推進ArF光刻膠（ArF干式分辨率90-45nm，濕式分辨率65-14nm）產(chǎn)能建設，規(guī)劃年產(chǎn)能達到25噸（干式5噸和浸沒式20噸）。
上海新陽
公司是KrF厚膜膠與ArF光刻膠開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目的實施主體單位，已擁有兩臺ArF光刻機，可分別用于干法和濕法光刻膠開發(fā)。目前KrF厚膜膠（分辨率≥0.15μm，膜厚0.3-15μm）已通過下游客戶驗證，可應用于3D存儲器件工藝/PAD/Implant，預計2021年年底會有訂單批量供應出貨。其ArF光刻膠尚處于客戶認證當中，可應用于先進邏輯節(jié)點的Line/Contact/Hole/Trench，按進度預計在2021年年底會取得實質(zhì)性的突破進展。
北京科華
公司是國內(nèi)本土KrF光刻膠主力供應商，目前已經(jīng)打入國內(nèi)多家芯片制造廠供應鏈（如長江存儲、中芯國際、廣州粵芯、華虹半導體），2021年上半年KrF光刻膠同比增長94.51%，產(chǎn)品可應用于Poly/AA/Metal/Implant/Contact Hole等工藝，其ArF光刻膠項目正在按計劃推進。
晶瑞股份
公司是老牌半導體光刻膠供應商之一，現(xiàn)已擁有一臺ArF干式光刻機。其KrF光刻膠樣品正在下游客戶驗證，分辨率可達0.15-0.25μm，可應用于Hole/Line/Space等層工藝，其ArF干式光刻膠正處在開發(fā)階段，分辨率可達90-65nm。
江蘇漢拓
公司是徐州博康集團控股子公司，具備徐州博康成熟的KrF、ArF光刻膠單體開發(fā)技術(shù)背景，目前已開發(fā)KrF正膠和負膠產(chǎn)品，以負膠（分辨率0.25μm，膜厚0.6μm）和厚膜膠（分辨率1μm，膜厚3-5μm）為重點，可應用于Lift-off工藝、厚鋁刻蝕、PAD工藝；ArF系列光刻膠正在以與客戶合作開發(fā)模式推進，開發(fā)的ArF光刻膠樣品分別達到了N90、N65、N55的應用需求，已有一款ArF光刻膠產(chǎn)品小批量供應某存儲芯片制造商，全系列產(chǎn)品還需進一步在客戶端評估驗證。
廣州微納光刻材料
公司專注開發(fā)ArF光刻膠，目前主要開發(fā)了90nm和55nm節(jié)點的ArF光刻膠樣品，90nm節(jié)點的光刻膠有很好的線寬粗糙度，55nm節(jié)點的高寬比可達3.2:1，同復旦大學微電子學院鄧海教授課題組有深度合作，其以OEM形式進行代工生產(chǎn)，和廣東/嘉興兩家化工生產(chǎn)企業(yè)簽訂了代工協(xié)議。
勢銀(TrendBank)2021年推出最新年度報告《2021年光刻膠產(chǎn)業(yè)市場分析報告》，本市場研究報告?zhèn)戎赜趪鴥?nèi)半導體/顯示光刻膠市場/供應鏈，報告具體目錄如下：
第1章 光刻膠概念及其行業(yè)發(fā)展概述
1.1 光刻膠概念深度剖析
1.1.1 光刻膠應用場景分析
1.1.2 光刻膠的產(chǎn)品及應用屬性分析
1.1.3 先進光刻材料熱點剖析
1.2 中國光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
1.2.1 國內(nèi)光刻膠整體市場及國產(chǎn)化情況
1.2.2 國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈瓶頸剖析
1.2.3 國內(nèi)各地利好政策及項目布局剖析
第2章 中國光刻膠專用化學品行業(yè)競爭環(huán)境分析
2.1 全球光刻膠專用化學品主要企業(yè)格局現(xiàn)狀
2.1.1 上游主要企業(yè)所屬地分布情況
2.1.2 主要企業(yè)化學品經(jīng)營范疇
2.2 國內(nèi)光刻膠專用化學品市場分析
2.3 國內(nèi)光刻膠專用化學品主要企業(yè)剖析
2.3.1 強力新材
2.3.2 圣泉集團
2.3.3 徐州博康
第3章 中國光刻膠行業(yè)競爭環(huán)境分析
3.1 國內(nèi)光刻膠企業(yè)地域分布深度剖析
3.2 國內(nèi)光刻膠企業(yè)的產(chǎn)品/產(chǎn)能情況統(tǒng)計
3.3 國內(nèi)光刻膠市場深度剖析
3.3.1 國內(nèi)半導體及顯示光刻膠市場格局分析
3.3.2 國內(nèi)半導體及顯示光刻膠市場規(guī)模分析
3.4 國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)配套檢測設備剖析
3.4.1 配套檢測設備資金投入占比剖析
3.4.2 光刻膠關(guān)鍵設備國產(chǎn)化分析
第4章 全球光刻膠行業(yè)主要企業(yè)發(fā)展情況分析
4.1 國外光刻膠產(chǎn)業(yè)主要企業(yè)經(jīng)營情況分析
4.1.1 德國默克
4.1.2 日本TOK
4.1.3 日本JSR
4.1.4 美國陶氏化學
4.2 重點企業(yè)發(fā)展情況剖析
4.2.1 南大光電
4.2.2 晶瑞股份
4.2.3 彤程新材
4.2.4 上海新陽
4.2.5 雅克科技
第5章 中國光刻膠專利及光刻技術(shù)分析
5.1 國內(nèi)主要企業(yè)專利申請情況剖析
5.2 國內(nèi)光刻膠專利深度剖析
5.2.1 國內(nèi)光刻膠專利結(jié)構(gòu)分析
5.2.2 國內(nèi)外專利趨勢對比分析
5.3 先進光刻技術(shù)路線對比分析
第6章 中國光刻膠下游需求市場情況分析
6.1 下游應用結(jié)構(gòu)剖析
6.2 終端市場格局分析
第7章中國光刻膠產(chǎn)業(yè)市場發(fā)展趨勢預測（2021-2025）
第8章中國光刻膠產(chǎn)業(yè)投資機會及風險分析
8.1 產(chǎn)業(yè)投資機會
8.2 投資風險分析
轉(zhuǎn)載自：勢銀膜鏈微信公眾號。
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